實驗前必須對真空室進行烘烤,主要目的是()。A.烘幹待蒸鍍材料,除去水分B.提高薄膜生長的溫度C.去除吸附在鍍膜室內壁上的水分子和氣體分子D.以上都是正確答案:去除吸附在鍍膜室內壁上的水分子和氣體分子 點擊顯示答案